Ansys半導体製造プロセスセミナー
プラズマ解析セミナー
先着50名限定
微細化の要求が年々進む半導体製造ではプラズマを利用した加工において、より効率や歩留まりの向上を図るため、プラズマ現象を理解し、適切に制御する事が必要とされています。
このセミナーではプラズマ現象をどのような計算方法によってシミュレーションで正確に再現できるのか、シミュレーションの結果によって非常に短い時間で変化するプラズマ現象を把握する方法についてご紹介いたします。
開催日時 | 2024年3月15日 14時~15時 |
会場 | トラストシティカンファレンス丸の内 Room5 東京都千代田区丸の内1-8-1 丸の内トラストタワーN館11階 |
費用 | 無料 |
主催 | アンシス・ジャパン株式会社 |
対象 | 半導体製造装置の設計・開発もしくは半導体製造装置を使った製造に関する業務に従事しているお客様 |
人数 | 先着50名限定のセミナーです |
参加申し込み期限 | 2024年3月11日正午までにこのページにて参加登録をお願い致します。 |
補足事項 | 当社の同業他社および米国が輸出規制対象企業に指定している企業からのご参加は後日お断りさせていただく可能性がございます。 |
14:00-14:10 |
ご挨拶Chimun Yun, Senior Product Sales Manager, New & Emerging Technology, Ansys |
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14:10-14:50 |
Ansys Charge Plusによるプラズマシミュレーションの実現微細化の要求が年々進む半導体製造ではプラズマを利用した加工において、より効率や歩留まりの向上を図るため、プラズマ現象を理解し、適切に制御する事が必要とされています。 このセミナーではプラズマ現象をどのような計算方法によってシミュレーションで正確に再現できるのか、シミュレーションの結果によって非常に短い時間で変化するプラズマ現象を把握する方法についてご紹介いたします。 アンシス・ジャパン株式会社技術部 北村 浩之介 |
14:50-15:05 |
質疑応答 |